Angstrom-Dep ALD systems：模块化及定制化产品
标准配置的ALD系统以及技术指标
Angstrom-dep®系列ALD系统可以有三种基本配置：
可单独用于晶片样品ALD或单独用于粉末样品ALD的独立功能系统Angstrom-dep I；
同时具有晶片样品ALD和粉末样品ALD模式的双功能ALD系统Angstrom-dep II；
同时具有晶片ALD, 粉末ALD以及等离子体模式的三功能ALD系统Angstrom-dep III；
模块化设计，客户可以根据需要选择配置，或者将已有的低配系统升级；
主要参数
超过十年的ALD经验. 除普通的热ALD外, 尤擅长等离子体ALD，多孔材料的ALD 和粉末材料的ALD；
注重系统的内在功能, 可靠性和实用性；
可做批量的粉末ALD。粉末样品收集方便，ALD腔体易清理，无不同粉末样品间的交叉污染；
允许使用腐蚀性前驱体，因此可做低温ALD, 对处理有机聚合物等非常重要；
产品可模块化设计，升级和维护容易。可方便地将客户已有的晶片ALD系统加上等离子体功能，独立的粉末ALD腔体，以及臭氧氧化功能；有抽屉式样品台和拉门式前驱体源室，样品和前驱体的更换方便快捷。
注重系统的内在功能， 可靠性和实用性；
基于多年业界经验开发的ALD气路流程和ALD腔体的独特设计；
系统有自动启动的自清洁功能， 有效避免管路沉积甚至堵塞；
计算机程控，实验参数可备份并随时调用。
模块化设计；
独立晶片（RT-450°C)；
独立前驱体（前驱体及气路有温控功能）；
独立粉末腔（RT-350°C)；
用户可根据实际需求选择配置或升级配置。
优越的粉末ALD功能 粉末腔有主动扰动功能，使粉末在ALD过程中分散均匀， 让ALD更加均匀；
粉末瓶可方便地取出， 清理方便；
标准化粉末瓶，更换粉末瓶避免不同样品之间的可能污染。
可加热的样品台，快速温度控制；
单腔结构，简单，便捷，易维护；
抽屉式样品台， 拉开即可换样；
根据需要选择3寸和8寸样品台；
粉末腔与晶片腔是独立的两个腔室，防止粉末， 尤其是肉眼看不到的纳米粉末, 对晶片的污染。
可以在晶片腔加入等离子体功能；
可以在前驱体部分加入臭氧功能。
